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拋光(guāng)設(shè)備


不鏽鋼拋光容器(qì)表麵處理技術詳情

一、拋光等級標(biāo)準

1. 機械拋(pāo)光等級(按ASTM A480):

等級 表麵粗糙度Ra 應(yīng)用(yòng)場景
2B 0.4–0.6 μm 工業容器、一般化工設備
No.4 0.3–0.5 μm 食品、製藥(yào)低潔淨度區域
No.8 ≤0.2 μm 鏡麵拋光,GMP無菌區

2. 電解拋(pāo)光等級(按ASTM B912):

  • o EP-Level 1:Ra≤0.2 μm(顯(xiǎn)微(wēi)平整度提升)
  • o EP-Level 2:Ra≤0.1 μm(超高潔淨度(dù)要求)

二、機(jī)械拋光工藝

1.工藝流程:

粗磨(60–120目)→ 中磨(150–320目)→ 精拋(400–800目)→ 鏡麵拋(1000目以上)

2.關(guān)鍵技術參數(shù):

  1. o 拋光(guāng)輪轉速:800–1800 rpm(依砂粒粒度調整)
  2. o 壓力控製:0.1–0.3 MPa(避免過熱變形)
  3. o 冷卻方式:水冷/乳化(huà)液冷卻(què)(溫度(dù)<50°C)

3.材料適配性:

  1. o 304/316L:適合所(suǒ)有等(děng)級(jí)拋光
  2. o 雙相鋼2205:需降低轉(zhuǎn)速(sù)防過熱σ相析出
  3. o 哈氏合金(jīn):需專(zhuān)用拋光(guāng)膏防汙染

三、電解拋光工藝

1.原理:

陽極溶解+鈍化膜形成,實現微觀平整(可去除10–30 μm表層)

2.電解液配方:

  1. o 磷酸基:H₃PO₄ 60% + H₂SO₄ 20% + H₂O 20%(適用304/316)
  2. o 環保型:檸檬酸+乙二醇(適用於敏感設備)

3.工藝參(cān)數:

參(cān)數 範圍(wéi) 影響
電壓 8–15 V 決(jué)定溶解速率
電流密度 10–30 A/dm² 影響表麵光澤度
溫(wēn)度(dù) 50–70°C 溫度過高易過腐蝕
時間 3–10 min 依(yī)初始粗糙度調整

四、特殊表麵處理

1.鈍化處理(按ASTM A967):

  1. o 硝酸鈍化:20–50% HNO₃,40–60°C,浸泡20–60 min
  2. o 檸檬酸鈍化:4–10%濃度,60–80°C,環保替代方案

2.塗層增強

  1. o PTFE塗(tú)層:厚度0.2–0.5 mm,耐強酸(HF除外)
  2. o 陶瓷塗層:Al₂O₃或ZrO₂,耐磨耐(nài)高溫

五、質(zhì)量檢測標準

1.粗糙度檢測

  1. o 接觸式:指針粗糙度儀(精度±0.01 μm)
  2. o 非接觸式:激光(guāng)共聚焦顯微鏡(3D形貌分析)

2.潔淨度驗證

  1. o 殘留物:ATP生物熒光檢測(RLU<1000)
  2. o 鐵汙染:鐵氰化鉀試紙測試(shì)(無藍斑)

3.耐腐(fǔ)蝕測試

  1. o 鹽霧試驗:中性鹽霧500 h無鏽蝕(ASTM B117)
  2. o 藍點試驗:銅硫酸銨溶液檢測鈍(dùn)化效果

六、應用場景選擇

1.製藥(yào)行業

  1. o 注射用水罐:電解拋光+鈍化(huà)(Ra≤0.2 μm)
  2. o 發酵罐(guàn):機械拋光No.4+鈍化(Ra=0.3–0.5 μm)

2.食品行業

  1. o 乳品罐:機械拋光No.4(Ra=0.3–0.5 μm)
  2. o 啤酒(jiǔ)發酵罐:機械拋光2B+電解拋光(guāng)(Ra≤0.4 μm)

3.半導體行業

  1. o 高純化學品罐:電解拋光EP-Level 2(Ra≤0.1 μm)
注:表麵處理需根據介質腐蝕性、潔淨(jìng)度要求和成本綜合選(xuǎn)擇,建議提供具體工況由專業廠商設計處理方案。無錫益騰可為您(nín)實現容器的按要求製作和表麵(miàn)處理(lǐ)工作。

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