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拋光設(shè)備


不(bú)鏽鋼拋光容器表麵處理技術(shù)詳情

一、拋光(guāng)等級標準

1. 機械拋光等(děng)級(按ASTM A480):

等級 表麵(miàn)粗糙度Ra 應用場景
2B 0.4–0.6 μm 工業容器、一般(bān)化工設備
No.4 0.3–0.5 μm 食品、製藥(yào)低潔淨度區域
No.8 ≤0.2 μm 鏡麵拋(pāo)光,GMP無菌(jun1)區

2. 電(diàn)解拋光等級(jí)(按ASTM B912):

  • o EP-Level 1:Ra≤0.2 μm(顯微平整度提升)
  • o EP-Level 2:Ra≤0.1 μm(超高潔淨度要求)

二、機械(xiè)拋(pāo)光工(gōng)藝

1.工藝流程:

粗磨(60–120目)→ 中磨(mó)(150–320目)→ 精拋(400–800目)→ 鏡麵拋(pāo)(1000目以上)

2.關鍵技術參數:

  1. o 拋光(guāng)輪轉(zhuǎn)速:800–1800 rpm(依砂(shā)粒粒度調整)
  2. o 壓力控製:0.1–0.3 MPa(避免過熱變形)
  3. o 冷(lěng)卻方式:水冷/乳化液冷卻(溫度<50°C)

3.材料適配性:

  1. o 304/316L:適合所有等級拋光
  2. o 雙相鋼2205:需降低轉速防過熱σ相析出
  3. o 哈氏合金:需專用拋光膏防汙染

三、電(diàn)解拋光工藝

1.原理:

陽極(jí)溶解+鈍化膜形成(chéng),實(shí)現微觀平整(可去除10–30 μm表層)

2.電解液配方:

  1. o 磷(lín)酸基:H₃PO₄ 60% + H₂SO₄ 20% + H₂O 20%(適用304/316)
  2. o 環保型:檸檬酸+乙二醇(適用於(yú)敏感設備)

3.工(gōng)藝(yì)參數:

參(cān)數 範圍 影響(xiǎng)
電壓 8–15 V 決定溶解速率
電流密(mì)度 10–30 A/dm² 影響表(biǎo)麵光澤度
溫度 50–70°C 溫度(dù)過高易過腐蝕
時間 3–10 min 依初始粗糙度調(diào)整

四、特殊表麵處理

1.鈍化處理(按ASTM A967):

  1. o 硝酸鈍化:20–50% HNO₃,40–60°C,浸泡20–60 min
  2. o 檸檬酸鈍化:4–10%濃度,60–80°C,環保替代方(fāng)案

2.塗層增強(qiáng)

  1. o PTFE塗層:厚度0.2–0.5 mm,耐(nài)強酸(HF除外)
  2. o 陶瓷塗層:Al₂O₃或ZrO₂,耐磨耐高溫

五、質量檢測標準

1.粗糙度檢測

  1. o 接觸式:指針粗糙(cāo)度儀(精度±0.01 μm)
  2. o 非接觸式:激光共聚焦顯微鏡(3D形(xíng)貌(mào)分(fèn)析)

2.潔淨度驗證

  1. o 殘留物:ATP生物熒光檢測(RLU<1000)
  2. o 鐵汙染:鐵氰化鉀試紙測試(無藍斑)

3.耐腐蝕測試

  1. o 鹽霧(wù)試驗:中性(xìng)鹽霧500 h無鏽蝕(ASTM B117)
  2. o 藍點試驗:銅硫酸銨溶液檢(jiǎn)測鈍化效果

六、應用場景選擇

1.製藥行業

  1. o 注射用水罐:電解(jiě)拋光+鈍(dùn)化(Ra≤0.2 μm)
  2. o 發酵罐:機械拋光No.4+鈍化(Ra=0.3–0.5 μm)

2.食(shí)品行(háng)業

  1. o 乳品罐:機械拋(pāo)光(guāng)No.4(Ra=0.3–0.5 μm)
  2. o 啤酒(jiǔ)發(fā)酵罐:機械拋光2B+電解拋光(Ra≤0.4 μm)

3.半導體(tǐ)行業

  1. o 高純化學品罐:電解拋(pāo)光EP-Level 2(Ra≤0.1 μm)
注:表麵處理需根據介質腐(fǔ)蝕性、潔淨度要求和成本綜合選擇,建議提供具體工況由專業廠商設計處理方案。無錫益騰可為您實現容器的按要求製作和表麵處理工作。

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